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磁光记录是目前发展最完备的可擦除重写式光记录技术。从记录密度角度考虑,由于光衍射的限制,最小记录尺寸与激光源的波长成正比。因此传统的磁光记录介质-稀土金属与过渡组金属的合金就表现出局限性,因为这种材料在短波长范围的磁光效应很小。而且在没有很好封装的情况下,它的化学稳定性很差。铋取代钇铁石榴石在短波长范围有巨大的磁光效应,而且它的化学稳定性良好。这种材料吸引人们的广泛研究,并被看作最具前景的下一代磁光记录介质。在本文的综述部分,首先介绍了什么是磁光效应,并且总结了不同类别的磁光材料。然后着重介绍了铁石榴石磁光材料的结构、磁学与磁光学性能、和它的发展历程。接下来介绍了Bi-YIG材料在目前的应用,例如磁光隔离器、磁光电流/磁场传感器和磁光记录等。最后比较了不同解释磁光现象的理论模型。本文实验研究由以下四部分组成:1. 共沉淀法制备Bi-YIG纳米颗粒。讨论了PH值、研磨时间和热处理条件对Bi-YIG纳米颗粒结晶情况和晶粒尺寸的影响。2. 共沉淀法加旋转镀膜法制备磁光复合薄膜。研究了热处理条件对薄膜法拉第旋转角、散射系数和磁光优质的影响。在波长633nm的激光下测量,最佳热处理条件下制备的薄膜的磁光优质可达4. 7°。在这一章中还介绍了磁光效应的测试方法。3. 高温热解氢氧化物沉淀法制备Bi-YIG多晶薄膜。这是一种新发明的制备Bi-YIG多晶薄膜方法。这种方法可以有效的把薄膜中晶粒的尺寸降低到10-20nm。而且这种方法比传统的高温热解硝酸溶液法在镀膜过程上也简单很多。4. 磁控溅射Bi-YIG陶瓷靶材沉积Bi-YIG多晶薄膜。通过XRD图谱的检测,所有衍射峰都指向石榴石相。扫描电镜显示Bi-YIG薄膜是平整无裂纹的。因此可以认为这种新型靶材适合用于磁控溅射制备Bi-YIG薄膜。