【摘 要】
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该文采用阴离子聚合技术,以苯乙烯(St)和甲基丙烯酸甲酯(MMA)为单体制备了不同嵌段比例的二嵌段共聚物P(St-b-MMA).通过实验得到不同比例嵌段共聚物制备所需的反应条件,探讨
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该文采用阴离子聚合技术,以苯乙烯(St)和甲基丙烯酸甲酯(MMA)为单体制备了不同嵌段比例的二嵌段共聚物P(St-b-MMA).通过实验得到不同比例嵌段共聚物制备所需的反应条件,探讨了加料顺序、溶剂、温度、单体比例、引发剂浓度、减活剂、分子量等因素对嵌段情况的影响.采用粘度法表征了P(St-b-MMA)分子量,利用FTIR、<1>HNMR、<13>CNMR、DSC等分析了P(St-b-MMA)结构及成分.基于聚苯乙烯(PS)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)截然不同的光降解性能,研究了二嵌段共聚物在不同嵌段比例(21﹪-41﹪)下的自组装行为及相态分布,探讨了紫外辐射时间、溶剂及浓度等因素对自组装过程的影响.针对PMMA质量分数为31﹪的二嵌段共聚物研究了电场自组装对嵌段共聚物微相区的取向排序作用,制备了具有纳米孔道的高分子薄膜,并采用SEM、AFM、UV-vis等分析表征了高分子薄膜的结构及形貌.
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