磁控溅射制备硅基哈氏合金薄膜结构及性能研究

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哈氏合金C-276作为一种耐腐蚀的镍基合金,在工业领域中得到了广泛的应用,将其制备成薄膜能在有效利用材料特性的基础上降低使用成本。本文采用直流磁控溅射的方法制备高品质的哈氏合金C-276薄膜,研究了制备工艺及其组织结构、成分与性能。用ANSYS有限元分析软件对哈氏合金C-276薄膜内的热应力进行了模拟,结果表明靠近边缘处薄膜的应力应变较大,容易脱落,薄膜热应力水平远大于基体。将理论计算得到的热应力与模拟计算的结果进行了比对分析,得到了热应力随基体厚度、膜厚以及沉积温度变化的规律。首先用XPS研究分析
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