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该文发展了一种新的制备有机/无机杂化材料的方法,将γ-射线辐照聚合乙烯基单体的方法引入到有机/无机杂化材料的制备过程中,它特有的低温度引发聚合过程为制备高SiO<,2>含量样品提供了方便的手段.
高分子/二氧化硅纳米杂化体系及其物理力学性能
【摘 要】
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该文发展了一种新的制备有机/无机杂化材料的方法,将γ-射线辐照聚合乙烯基单体的方法引入到有机/无机杂化材料的制备过程中,它特有的低温度引发聚合过程为制备高SiO含量样品
【机 构】
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中国科学院长春应用化学研究所
【出 处】
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中国科学院长春应用化学研究所
【发表日期】
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1998年期
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