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来源 :中国科学院半导体研究所 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
该文采用MBE生长技术制备了高质量的InAs/InP量子点材料,并对其结构、光学性质等进行了深入系统的分析,取得以下主要成果.(1)在InP(001)衬底上设计了生长InAs纳米结构材料.(2
【作 者】
:
李月法
【机 构】
:
中国科学院半导体研究所
【出 处】
:
中国科学院半导体研究所
【发表日期】
:
2001年期
【关键词】
:
InAs/InP量子点材料
光学性质
结构
InAs量子点
二维有序排列
自组织生长
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