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在高功率激光系统中，光学元件特别是光学薄膜是激光损伤最薄弱的环节，是限制激光系统向高功率发展的重要因素，是激光系统设计的重要依据和重大限制，因此，研究薄膜的损耗，不断减少薄膜的损耗，提高薄膜的损伤阈值，对研制和发展高能激光系统有重要意义。
本文首先探讨了薄膜损耗的类型及理论计算，总结了制备中红外薄膜常用材料的性质。重点研究了基板温度、蒸发速率对中红外强激光薄膜材料性质的影响，考察了薄膜的成份、晶体结构，对薄膜的制备工艺具有一定的指导意义；研究了蒸气入射角度对薄膜折射率、堆积密度的影响，发现在满足膜层均匀性的前提下应尽量采用较小的蒸气入射角；采用ZnSe、YbF3为镀膜材料制备了反射率稳定在99.9％以上的中红外高反射膜，薄膜的损耗小于之前采用ZnS、YbF3为镀膜材料制备的高反射膜；采用有限元方法仿真了薄膜的吸收引起的温升情况，与实际测量吻合较好。
最后，对本文的工作作了总结，指出了研究中存在的问题和不足，对以后的进一步研究工作提出了建议。