半导体激光器的频率调制与温度

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该文以单片机和模糊控制理论为基础,针对半导体激光器关键性问题——注入电流的稳定性和半导体激光器的温度控制,进行了理论研究和实验验证.通过半导体激光器的调制特性和热特性的分析,提出了半导体激光器激光光源系统的实验设计指标——注入电流的波动必须小于50μA,半导体激光器的温度变化应在±0.1℃的范围内.将整体控温和模糊控制技术相结合,实现了半导体激光器的温度控制.该控制通过检测半导体激光器的温度变化,从而实现了半导体激光器的双输入单输出的模糊控制系统,减少了超调量和振荡现象,保证了系统的稳定性;建立了模糊控制规则库,并制成了模糊控制规则表.在反模糊化的过程中,最大隶属度法的使用,省略了大量的模糊判决,使程序大大简化的同时提高了温控精度.该系统应用于以半导体激光器为光源的高精度干涉测量系统中.通过实验验证,基于上实现了半导体激光器注入电流的稳定性和温度控制的恒定性的指标要求,即半导体激光器的注入电流的波动小于40μA,整个系统的温度稳定性为±0.1℃,取得了很好的控制效果.
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