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碱性清洗是新近发展起来的应用于光伏半导体行业的一种清洗工艺，利用碱性清洗液的皂化作用，乳化作用，配合超声波和机械运动，表面活性剂的使用可以获得好的清洗效果。本课题采用石墨炉原子吸收光谱（GFAAS）分析测量硅片表面金属含量，验证碱性清洗工艺对清除Cu、Fe等重金属沾污的有效性。碱性清洗液在清洗过程中可以较长时间保持一定的pH值，是因为硅片表面硅元素和清洗液中OH-发生双向的化学反应，反应平衡后，pH值维持在11.5-12范围内不会持续下降。在碱性清洗液中添加表面活性剂，与不添