【摘 要】
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该论文工作包括两个部分,第一部分为正电子湮灭寿命谱仪探头结构的研究,第二部分为北京正负电子对撞机(BEPC)中粒子描迹仪系统中电荷灵敏放大器及的研究.一、正电子湮灭寿命
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该论文工作包括两个部分,第一部分为正电子湮灭寿命谱仪探头结构的研究,第二部分为北京正负电子对撞机(BEPC)中粒子描迹仪系统中电荷灵敏放大器及的研究.一、正电子湮灭寿命谱仪探头结构的研究.目前,正电子湮灭寿命谱方法已应用于金属材料结构分析及金属疲劳探测等领域的研究中.但是由于正电子寿命谱仪探头得结构特点,限制了它在实际中对金属物件内部微观结构及疲劳程度的探查应用.为此我们对正电子湮灭寿命谱仪探头结构做了初步的改进及研究.该文介绍正电子寿命谱仪的原理、结构、数据分析以及在测量中的一些问题;提出对正电子湮灭寿命谱仪结构的改进方案:一、单探头结构的设想,通过调研分析认为在现有的条件下单探头结构是不可行的;二、改进双探头的位置结构的设想,对这种结构进行了初步的分析讨论,并在此基础上进行实验研究.得知双探头改进结构可行性及条件.二、粒子描迹仪系统读出放大器的研制.描迹仪探测器用来探测高能粒子飞行中的轨迹.其结构为三个并行排列的多丝正比室,当有粒子穿过丝室时,三个丝室则给出粒子击中点的位置信息,由此确定粒子飞行轨迹.正比室被击中丝输出的电荷信号小于皮库量级,该论文工作研制完成了相应的电荷灵敏前置放大器和主放大成形电路;研究和应用了电荷重心读出法进行丝室的定位测量技术,使多丝正比室系统的位置分辨达到300μm.
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