真空吸附方式对KDP晶体加工精度的影响

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本文在了解国内外大口径KDP(Potassinm Dihydengen Phosphate)晶体超精密加工现状的基础上,分析了真空吸附方式对KDP晶体加工精度的影响;用有限元方法计算了真空吸附方式对KDP晶体加工精度的影响;对本文的一些结论设计试验进行验证;对加工KDP晶体的真空吸盘的设计提出了一些建议。 首先分析了真空吸盘自身的面形精度对KDP晶体加工精度的影响,提高真空吸盘自身的面形精度对提高KDP晶体加工精度有很重要的意义。并从理论上分析了进行预加工后,当KDP晶体完全吸附于真空吸盘表面时,真空吸盘表面复印机床主轴和导轨的部分可重复误差,消除了这部分机床误差对KDP晶体面形精度的影响,可以保证KDP晶体的等厚性。其次建立KDP晶体与真空吸盘间的有限元接触模型,并模拟KDP晶体被吸附于真空吸盘表面的状态。最后进行了几种试验,并进行分析对比。
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