基于TiO2改性光催化剂的制备及性能研究

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TiO2广泛应用于催化、消毒、杀菌等方面,是一种杰出的宽带隙半导体材料。然而,由于TiO2自身的一些特性而导致其实际应用受到制约,针对TiO2在光催化应用中存在的光生电子-空穴复合迅速、比表面积小、可见光下光催化效率低等不足,本文通过还原氧化石墨烯(RGO)改性TiO2和调控TiO2自身晶面来提高光催化性能。具体研究如下:
  (1)根据Hummers法得到氧化石墨(GO),再采用一步水热法得到RGO/TiO2复合光催化剂。最佳反应条件为:GO初始添加量为3%,反应温度T=180℃,反应时间t=9h。通过XRD、UV-vis DRS、FT-IR、BET和SEM等测试方法对样品进行表征与分析,结果表明,在水热制备条件下,GO被还原的同时,TiO2能够以锐钛矿型、小球状在RGO表面生长,测得的禁带宽度为3.02eV,比表面积为101m2/g,平均孔径为6.61nm。在高压汞灯(125W,主波长为365nm)的照射下,120min,RGO/TiO2样品对亚甲基蓝(MB,15mg/L)溶液降解率达97.8%,重复使用5次之后,降解率维持在95.8%,说明RGO/TiO2复合光催化剂具备优越的光催化活性和循环使用稳定性。
  (2)以HAc、NH4F和Ti(OBu)4为原料,通过溶剂热法合成了一系列具有暴露晶面{001}TiO2光催化剂。最佳反应条件为:反应温度T=200℃,反应时间t=24h。当F:Ti的摩尔比为1∶1(Rf=1)时,得到的样品为具有暴露晶面{001}TiO2介晶({001}TiO2-1),属锐钛矿型,形貌为不规则球型,粒径大小在100-200nm之间,测得禁带宽度为3.21eV,比表面积为88.6m2/g,平均孔径为11.1nm。在高压汞灯的照射下,经过60min后,对亚甲基蓝(MB,10mg/L)溶液、罗丹明B(RhB,10mg/L)溶液、诺氟沙星(Nor,20mg/L)溶液和四环素(Tc,20mg/L)溶液的降解率分别达到97.7%、94.7%、90.9%和90.3%;当Rf=4时,得到的样品为具有暴露晶面{001}TiO2单晶({001}TiO2-4),属锐钛矿型,形貌为均匀的扁平状,能够清晰地看到{001}晶面,长约1μm,禁带宽度为3.19eV,比表面积为47.2m2/g,平均孔径为12.2nm,但与{001}TiO2-1相比,在同等光催化条件下,其光催化性能略差,光照60min后,对染料及抗生素溶液的降解率仅达50%左右。
  (3)针对{001}TiO2-4光催化剂形貌好,但光催化活性低的缺陷,以抗坏血酸为还原剂,采用回流法将GO还原为RGO,对所制备的{001}TiO2-4进行复合改性,得到RGO/{001}TiO2复合光催化剂。实验结果表明,该复合光催化剂为纯锐钛矿型,禁带宽度为2.92eV,比表面积为189m2/g,平均孔径为5.25nm。与未改性的{001}TiO2-4相比,禁带宽度减小了0.27eV,比表面积增大4倍,平均孔径减小2.3倍。在氙灯(150W)的照射下,120min后对20mg/L MB溶液降解率达92.7%,降解反应服从一级反应动力学,测得降解速率常数ka=0.0164,约为纯{001}TiO2-4的3.2倍。在同等光催化条件下,样品对Nor溶液和Tc溶液的降解率分别达到88.9%和88.7%,同时,该复合光催化剂具有高的稳定性,在重复5次降解之后,样品对MB溶液和Tc溶液的降解率达到89.1%和87.2%。最后通过活性基团捕获实验对比分析,发现在光催化降解过程中光生电子和空穴起主导作用。
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