NEA Ga1-xAlxAs光电阴极中电子与原子结构研究

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负电子亲和势Ga1-xAlxAs光电阴极在海洋探潜、海洋通信和海底成像中有着重要的应用前景。然而,Ga1-xAlxAs材料性质的理论研究还不完善,亟待进一步研究和探索。本文采用基于密度泛函理论的第一性原理计算方法,从电子和原子层面研究了NEAGa1-xAlxAs光电阴极,为制备工艺提供理论支撑和指导。  计算了不同Al组分Ga1-xAlxAs体材料的性质,结果表明Al-As键的极性强于Ga-As键,随着Al组分的增加,吸收峰向高能端移动。Ga0.5Al0.5As和Ga0.37Al0.63As的体材料和表面具有相似的态密度曲线,为此选取更具代表性的Ga0.5Al0.5As进行Ga1-xAlxAs的研究。比较了Ga、Al和As空位缺陷Ga0.5Al0.5As的光电发射性质,Ga和Al空位表现出p型性质,As空位表现出n型性质。掺杂Ga0.5Al0.5As模型的计算表明间隙掺杂表现出n型特性,替位掺杂表现出p型性质。Be原子形成间隙掺杂和替位掺杂的概率接近,而Zn原子更倾向于形成替位掺杂。选用Zn原子进行掺杂更有利于光电阴极的制备。通过计算为Al组分、掺杂元素的选取提供理论支撑。  构造了Al2O3和Ga2O3在Ga0.5Al0.5As(001)β2(2×4)重构相上的吸附模型,通过计算得出Al2O3形成能和吸附能均高于Ga2O3,为Ga0.37Al0.63As高温清洗需要更高的温度提供了理论支撑。对比研究了Ga0.5Al0.5As(001)、(011)和(111)表面性质,计算结果表明(001)表面功函数最低,光子透过率最大,最有利于光电发射。比较了Ga0.5Al0.5As(001)表面四种重构相的性质,其中β2(2×4)为最稳定、最容易出现的重构相,γ(2×4)重构表面功函数最低,β2(2×4)重构表面最有利于光子透过。  表面Zn掺杂研究发现,Zn原子取代最外层Ga或Al原子会造成功函数上升,取代内部Ga或Al原子会造成功函数下降。采用四极质谱仪检测了超高真空系统中的残气成分,根据检测结果分析了残气分子对阴极表面性质的影响。结果表明CH4、H2和CO2分子比Cs原子更容易吸附于Ga0.5Al0.5As(001)β2(2×4)表面,Cs原子的吸附降低了表面功函数,残余气体分子的吸附使得表面功函数上升。H2O分子对材料的损害最严重,CO2分子对材料的损害较弱。Zn掺杂后,Cs原子和H2O、CO2分子的带电量明显减少,造成偶极矩显著减小,Cs吸附模型导带底和价带顶向高能端移动,H2O、CO2吸附模型导带底和价带顶向低能端移动,Zn掺杂有利于532nm左右的蓝绿光的吸收。  对比研究了Cs吸附于Ga0.5Al0.5As(001)β2(2×4)表面不同吸附位的性质。不同覆盖度Cs吸附研究表明,随着Cs覆盖度的增加,吸附能逐渐升高,吸附稳定性降低,功函数先是逐渐降低,在0.75ML时达到最低,随后开始回升。Zn掺杂造成Cs吸附模型的费米能级向下移动,0.125ML和0.25ML时,费米能级下移造成了功函数的升高,0.5ML和0.75ML时,表面能带弯曲区造成功函数的下降。掺杂前后,0.25ML的Cs、O吸附模型功函数分别为2.877eV和2.841eV,0.75ML的Cs、O吸附模型功函数分别为2.356eV和1.706eV。Cs、O激活后Zn掺杂原子处功函数低于周围,光电子更容易从掺杂原子附近逸出,从而造成了光电发射中的碎鳞场效应。
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