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作者首先分析了影响脉冲真空电弧离子镀膜均匀性的主要因素:即脉冲源的发射特性;阴极靶面和基片之间的距离.脉冲真空电弧离子镀有较高的离化率,沉积薄膜主要依靠离子束流.而离子束流的大小和分布受电场和磁场的影响.因此,利用改变电场、磁场的方法来研究脉冲源的发射特性.文中论述了膜厚的测量方法,以及采用法拉第筒来测量束流及其分布鞋.论文还研究了离子束流的入射角对膜层性能及均匀性的影响.当入射角限制在30°以内时,薄膜的性能和均匀性都比较好.