外延庞磁电阻薄膜及多晶薄膜的显微结构研究

来源 :中国科学院金属研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:akk871204
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功能薄膜材料在当代高新技术中起着重要的作用.新型功能薄膜材料的基础研究直接关系到信息技术和微电子技术等领域的发展进程.材料科学的中心概念是结构-性能关系,薄膜材料也不例外,其显微结构研究一直受到普遍重视,并向纳米和原子尺度等方向深入.该文利用高分辨电子显微术(HREM)和分析电子显微术(AEM),对几种薄膜材料的显微结构进行了研究.主要的研究结果包括以下几个方面:研究了用脉冲激光烧蚀方法沉积在单晶LaAlO<,3>(LAO)衬底(750℃)上的La<,2/3>Sr<,1/3>MnO<,3>(LSMO)薄膜的微结构特征.详细地研究了掺杂Ag元素对LSMO薄膜微观结构的影响及Ag的赋存状态.研究了用反应射频磁控溅射法制备的Fe-N薄膜和[FeTaN/TaN]<,5>多层膜的微观结构.对TiO<,2>-Ag-TiO<,2>-SiO多层膜横截面样品进行了高分辨观察和纳米尺度的成分分析.结果表明,薄膜各层厚度较均匀,Ag层为纳米晶,而TiO<,2>和SiO为非晶.Ag层并未团聚或扩散,从而保证了薄膜具有良好的性能.
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