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随着半导体元件大规模集成化,电子元器件趋于微型化,电子设备趋于小型化,需要磁性器件向小型、薄膜方向发展,具有高饱和磁化强度、高电阻率、高磁导率和低矫顽力的软磁薄膜成为磁性材料发展的必然方向。铁磁/反铁磁纳米多层膜是利用铁磁层与反铁磁层之间产生的交换偏置场,通过改变交换偏置场的大小,增加材料的有效各向异性场,使材料同时具有适当的各向异性场和高的共振频率,这类薄膜材料成为软磁材料研究中的一个亮点。本论文中,我们利用射频磁控溅射方法制备了FeCoSi/MnIr/FeCoSi系列纳米多层膜。用X射