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该文运用真空多弧离子镀技术制备Ti系硬质膜,主要沉积了TiN、Ti(C,N)膜,并对其各种性能进行了研究,主要对TiN膜的硬度进行了分析和研究.对TiN膜硬度测量及其校正是该文研究的重点.该文选择Hss、Si、Cu、Glass五种材料为基底,选择了最佳的镀膜工艺镀制了TiN膜,并对他们的硬度进行了测试.研究了测得的TiN膜的硬度随着基底硬度的增大而增大的规律.作者还通过分析和计算提出了一条较为合理的硬度校正的半经验公式.