【摘 要】
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在高能激光装置中,镀膜光学元件膜层的透过率和反射率及其均匀性,作为大口径光学元件镀膜的重要技术指标,直接影响到高通量的激光光束的质量及取样精度。膜层透/反射率的精密
【出 处】
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中国科学院研究生院 中国科学院大学
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在高能激光装置中,镀膜光学元件膜层的透过率和反射率及其均匀性,作为大口径光学元件镀膜的重要技术指标,直接影响到高通量的激光光束的质量及取样精度。膜层透/反射率的精密检测技术是研制高均匀性薄膜的重要基础,进而用来控制光束质量。而传统的分光光度计膜层检测技术在检测精度与大口径空间分布测量方面还不能满足需求。本论文对此进行了系统研究,设计了透/反射率及均匀性测量系统,针对单点重复精度,进行验证性实验分析,提高了样机的稳定性,并对系统精确度进行校准,完成扫描定位部分演示实验。对样机开发做了详细的验证分析,为此类仪器设计、选型和工程应用提供分析依据。
本文取得的主要进展及创新点可归纳为以下几方面:
1、自主设计了一套基于双光路互相关技术的透/反射率及均匀性测量系统,实验测试了三种不同形态激光光源的单点透/反射率重复精度,定量分析了不同光源对透/反射率重复测量精度的影响。与简单双光路进行实验比较,1053nm波长的重复不确定度稳定在4‰左右(置信度为95%),精确度优于0.2%,满足大口径均匀性测量的精度要求。
2、利用已知参数的样板标定所设计样机的绝对精度,并进行测试,修正反射率标定过程,选择已知参数的、表面抛光精细的校准样品,减少了误差来源。
3、设计、制作出测量透/反射率均匀性的一维扫描装置,完成机械电子反馈控制电路,并编写了测试程序,实现了光学元件在水平方向电动平移扫描,通过编码器实现闭环反馈精确定位,完成了大口径样品的扫描部分演示实验。
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