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【摘 要】
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以类金刚石膜的场发射应用为目的,研究了各种沉积条件如:氢等离子体刻蚀、氢气辅助沉积、氮掺杂等技术对膜的场发射性能的影响,摸索出获得最佳发射时膜的沉积参数.利用制备好
【机 构】
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吉林大学
【出 处】
：
吉林大学
【发表日期】
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2003年期
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