【摘 要】
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利用强流离子注入技术在溶胶一凝胶法制备的二氧化钛纳米薄膜中掺杂金属钨，获得钨(W)掺杂二氧化钛(W/TiO)光催化薄膜。利用甲基橙在紫外光照射下的光催化降解评价了这种薄膜的
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利用强流离子注入技术在溶胶一凝胶法制备的二氧化钛纳米薄膜中掺杂金属钨，获得钨(W)掺杂二氧化钛(W/TiO<,2>)光催化薄膜。利用甲基橙在紫外光照射下的光催化降解评价了这种薄膜的光催化特性。研究了离子注入电压和离子注入剂量(W<+>浓度)对光催化性能的影响。
依据密度泛函理论(DFT)，采用“总体能量-平面波”超软赝势方法，利用VASP软件包对W掺杂的TiO<,2>构造超晶胞进行了分析，给出W掺杂TiO<,2>的晶体结构参数及特性，为TiO<,2>材料的掺杂改性提供了理论依据。并通过计算W<+>掺杂情况下TiO<,2>晶体的能带结构和电子态密度，分析了W/TiO<,2>晶体的电子结构和光学吸收带边的影响。还对不同W<+>掺杂浓度的TiO<,2>电子密度和能带结构进行了详细的研究，并与相关文献进行了比较。所有计算工作都是利用VASP软件在PC机上完成的。
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