【摘 要】
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采用EA-CVD方法沉积金刚石膜,研究了甲烷浓度、灯丝-基片间距、气压、偏流等金刚石膜沉积参数对金刚石膜沉积的影响,并在优化实验条件的基础上,成功的沉积出φ80mm的金刚石厚
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采用EA-CVD方法沉积金刚石膜,研究了甲烷浓度、灯丝-基片间距、气压、偏流等金刚石膜沉积参数对金刚石膜沉积的影响,并在优化实验条件的基础上,成功的沉积出φ80mm的金刚石厚膜.通过改变气体流量和添加氮气的方法来改变金刚石膜沉积气氛中的氮含量,研究了氮对金刚石膜的沉积速率和品质的影响,并在此基础上成功的沉积出高质量的白色透明金刚石膜.对金刚石膜中氮的存在状态进行了研究,发现金刚石膜中的氮主要以单原子替代形式存在.研究了金刚石膜沉积参数对金刚石膜应力状态的影响,研究了金刚石膜中的微裂纹.
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