【摘 要】
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本文采用自制的1kW/2.45GHz石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备在玻璃基板上制备类金刚石(DLC)薄膜,使用X射线光电子能谱(XPS)、紫外可见分光分度计、拉曼光谱仪、场发射扫描电子显微镜和旋转摩擦磨损测试仪等研究测试手段对不同工艺参数下制备薄膜样品的结构、光透过率、形貌、摩擦性能等进行了表征分析。从而得到了随着微波功率、沉积时间、沉积气压等工艺参数的变化时,所制备出薄膜的
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本文采用自制的1kW/2.45GHz石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备在玻璃基板上制备类金刚石(DLC)薄膜,使用X射线光电子能谱(XPS)、紫外可见分光分度计、拉曼光谱仪、场发射扫描电子显微镜和旋转摩擦磨损测试仪等研究测试手段对不同工艺参数下制备薄膜样品的结构、光透过率、形貌、摩擦性能等进行了表征分析。从而得到了随着微波功率、沉积时间、沉积气压等工艺参数的变化时,所制备出薄膜的结构、性能的变化规律,优化了其制备工艺参数,研究对比了其结构与性能上的差异,并在适宜的工艺参数下,在不同
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