GaInAsSb/GaSb异质结的MOCVD生长及掺杂研究

来源 :中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gang007
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Ⅲ-Ⅴ族Sb化物由于在红外光源与探测领域的重要应用而得到了广泛重视,本文用MOCVD技术外延生长了GaInAsSb/GaSb异质结材料,研究了其生长特性,掺杂特性,并对材料中的位错特性进行了探索.1 GaInAsSb四元合金的MOCVD生长GaInAsSb四元合金材料是用水平常压MOCVD设备生长的,我们对GaInAsSb四元合金材料的组份和带隙关系进行了研究,分析了GaInAsSb/GaSb异质结结构的能带类型及Ⅱ型异质结结构的特点和用途;研究了生长温度,Ga/Ⅲ比,Sb/V比,AsH<,3>流量等参数对生长速率和固相组份的影响.2 GaInAsSb四元合金的掺杂研究对n,p型掺杂源进行了分析,选择DETe,TESn,和DEZn三种掺杂源对GaInAsSb四元合金进行了n,p型掺杂研究,发现TESn是较为合适的n型掺杂源,而DEZn是较为合适的p型掺杂源.3 GaInAsSb/GaSb异质结截面的微结构研究对GaInAsSb/GaSb失配外延层中的截面特性进行了研究,发现在外延层中存在60°,90°位错和堆垛层错,它们提供了一种内应力的释放方式,并且发现只有90°位错可以在外延层表面形成脊.4低压MOCVD设备的研制及组装为了满足日益增长的对材料特性的要求,我们自行研制组装了一台较先进的,VCR连接的,全面计算机控制的低压MOCVD设备.
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