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目前人们研究这两种薄膜多采用直流或射频PCVD技术,并且设备多为实验室水平,在研究成果与实际应用之间还存在很大差距;对膜层的研究集中在显微硬度和组织结构的分析上,对膜基结合性能、耐磨损等性能的研究尚未深入展开.利用八六三计划资助研制的工业型脉冲直流PCVD设备,在HSS和H13模具钢基体上成功制备了Ti-C-N与Ti-Si-N薄膜,并对其显微组织及相结构、硬度、电化学性能、膜基结合性能、常温及高温抗磨性能进行了试验研究.重点探讨不同含量的C和Si对膜层的组织结构和性能的影响,为进一步的工业应用提供实验依据.