多弧离子镀薄膜的制备及其组织性能的研究

来源 :清华大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:shifter_2009
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该论文系统研究了多弧离子镀沉积薄膜技术.采用多弧离子镀设备,通过优化工艺参数,在三种不同基材上制备了两种单层薄膜和五种多层膜.通过对薄膜表面粗糙度的研究发现,液滴的存在使得薄膜表面粗糙度值R<,a>不小于0.10μm.即当沉积前基体表面粗糙度值R<,a>小于0.10μm时,沉积薄膜后,工件表面粗糙度将受到损害.液滴是多弧离子镀技术的主要缺点.腐蚀实验采用了失重法和阳极极化曲线两种方法.失重法结果表明,薄膜腐蚀机理是:腐蚀介质通过膜层中微孔接触基本,从腐蚀基体引起薄膜脱落,以至薄膜对基材保护作用失效.该论文首次设计并采用在熔融的石蜡松混合物液体中浸泡的方法,对薄膜进行封孔处理.
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