单晶铜微纳米柱力学性能研究

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随着人类科技的进步和时代的发展,微观尺度下的应用已成为新世纪研究的重要课题。以电子通讯技术为代表的微电子器件,光电子器件等均对微纳米尺度下的结构和材料的力学性能和破坏形态的研究提出迫切要求。另一方面,科学技术的进步,如纳米压痕仪,聚焦离子束(focused ion beam,FIB),电子显微镜(SEM),透射电子显微镜(TEM)等仪器的出现,使得微观实验变得可能。基于以上这些,本文进行了以下相关研究工作。(1)研究聚焦离子束(FIB)溅射涂层对微纳米柱力学性能和破坏形态的影响,并通过透射电子显微镜
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