等离子体显示器MgO介质保护薄膜的制备、性能及应用研究

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该文所做的主要工作和取的创造性成果有:1、深入研究了电子束蒸发制备的MgO薄膜的特性以及基底温度,沉积速率,通氧气量等工艺参数对MgO薄膜特性的影响.2、为了制备致密的MgO薄膜,提高薄膜的抗溅射能力和降低薄膜的吸水能力,研究了离子束辅助沉积技术制备的MgO薄膜的特性及离子能量,离子种类,基底温度,通氧量等工艺参数对薄膜特性的影响.3、分析研究了电子束蒸发制备的MgO薄膜和离子束辅助沉积制备的MgO薄膜对PDP放电特性的影响.4、研究了制备MgO薄膜之后的工序如高温封接及老练对不同制备方法,不同制备工艺制备的MgO薄膜的表面化形貌,结晶取向,抗溅射能力等特性的影响.5、准确测量MgO薄膜的二次电子发射系数对于深入讨论MgO薄膜特性对PDP放电特性的影响尤为重要.
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