【摘 要】
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准分子激光光刻是提高大规模集成电路(VLSI)集成度的核心技术，准分子激光器作为光刻光源要满足量产需要具备高重复频率、高能量稳定性、窄线宽、高波长稳定性以及长气体寿命等
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准分子激光光刻是提高大规模集成电路(VLSI)集成度的核心技术，准分子激光器作为光刻光源要满足量产需要具备高重复频率、高能量稳定性、窄线宽、高波长稳定性以及长气体寿命等特点。光刻生产的吞吐量受制于激光器的平均功率和重复频率;光刻系统的关键尺寸(CD，critical dimension)控制精度、光刻效率及曝光精度与激光器的重复频率、单脉冲能量、剂量能量控制精度相关。本文针对准分子激光器输出光束的能量特性相关参数的检测与控制开展了深入研究。 论文分析了准分子激光输出脉冲能量的影响因素及能量控制的原理，设计了能量输出稳定控制系统的整体设计方案。准分子激光输出脉冲能量的测量通常采用热释电法和光电法。设计采用热释电法检测单脉冲能量，并分析了该方法在高重复频率条件下的不足，然后采用光电法实现了高重复频率条件下准分子激光输出脉冲能量的检测。 为了实现通过调节电压实现脉冲能量的稳定控制，建立了激光输出脉冲能量变化的数学模型，设计了基于电压实时调节的PID算法，借助于Matlab仿真实验验证了脉冲能量数学模型、PID算法的有效性和实用性。最后提出了脉冲能量调节策略，并设计了电压调节电路用于实现通过调节谐振充电电压控制下一脉冲能量的功能。
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