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作为薄膜太阳电池的一个新品种，柔性衬底非晶硅太阳电池在应用上日益凸现出巨大的潜力，受到越来越多的关注。聚酰亚胺薄膜由于具有良好的物理化学性能，成为一种理想的柔性衬底材料。然而同所有非晶硅太阳电池一样，聚酰亚胺衬底柔性非晶硅太阳电池也存在光致衰退效应（SWE），这对它的推广应用产生了严重影响。
为了提高聚酰亚胺衬底柔性非晶硅太阳电池的稳定性，本文主要做了以下工作：
首先，针对protocrystalline Si：H（pc-Si：H）薄膜材料在光照下具有良好稳定性的特点，为了将pc-Si：H薄膜应用到柔性电池，我们研究了pc-Si：H薄膜的生长条件和稳定机理，并在射频等离子体增强化学气相沉积系统中采用氢稀释的方法制备pc-Si：H薄膜。在研究功率密度、反应气压、衬底温度以及气体流量等沉积工艺对薄膜光电性能影响的基础上，对pc-Si：H薄膜进行了优化，最后研制出光学带隙为1.8eV，光敏性高达6.2×104的pc-Si：H薄膜材料。在光照衰退实验中，通过与a-Si：H材料的比较得出pc-Si：H材料在光照下具有良好稳定性的特点。
其次，在改进电池制备工艺的基础上，把pc-Si：H薄膜应用于太阳电池的本征层和窗口层。对于本征层，研究发现，相对于非晶硅薄膜电池，pc-Si：H薄膜电池具有更高的开路电压，但短路电流密度相对较低；在光照下，pc-Si：H薄膜电池表现出非凡的稳定性，在整个光照过程中，电池效率甚至有所升高。对于窗口层，p型pc-Si：H薄膜能有效的提高电池的短路电流密度，但因为光学带隙相对与p型a-SiC：H薄膜要低，所以开路电压有所下降。在i/p界面采用一定的氢处理可以有效的改善p层薄膜的性能。
总之，我们对pc-Si：H薄膜的性能有了一个比较深的认识，为了克服pc-Si：H薄膜的不足，我们在将来的工作中一方面继续研究和优化pc-Si：H的性能，另一方面将把pc-Si：H薄膜应用于柔性衬底叠层电池，以提高电池的转换效率和稳定性。