【摘 要】
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本文采用HWE(Hot Wall Epitaxy)方法,在Si衬底上生长了PbTe薄膜,通过改变衬底温度和进行掺杂在Si衬底上制备出了结构不同的PbTe薄膜。使用多种方法研究了薄膜的微观结构,讨论了掺杂对薄膜生长的影响,n-PbTe/p-Si异质结的I-V性质表明,具有很好的整流特性。同时首次在金刚石衬底上生长出了PbTe薄膜,分析了PbTe薄膜的结构及生长机制,制备了n-PbTe/p-diamo
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本文采用HWE(Hot Wall Epitaxy)方法,在Si衬底上生长了PbTe薄膜,通过改变衬底温度和进行掺杂在Si衬底上制备出了结构不同的PbTe薄膜。使用多种方法研究了薄膜的微观结构,讨论了掺杂对薄膜生长的影响,n-PbTe/p-Si异质结的I-V性质表明,具有很好的整流特性。同时首次在金刚石衬底上生长出了PbTe薄膜,分析了PbTe薄膜的结构及生长机制,制备了n-PbTe/p-diamond异质结,测量其整流特性,并给出了异质结的能带结构图。
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