HT-7U超导磁体绝缘结构及其工艺的研究

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HT-7U超导托卡马克核聚变实验装置是国家"九五"重大科学工程,在聚变能的开发研究中,它的建成具有重大的战略意义.低温超导磁体系统是超导托卡马克装置的关键部件之一,而磁体的绝缘系统以地磁体性能和稳定运行将起重要作用.在绝缘结构和绝缘材料合理选用的基础上,真空压力浸渍(Vacuum Pressure Impregnation)是绝缘系统成败的关键技术,而浸渍前后的相关工艺也是极为重要的技术,研究和发展这些技术是该论文的主要任务.为了保证超导磁体能够满足设计要求,需要采用VPI处理工艺,为使侵渍过程中能保证树脂充分浸润玻璃纤维增强材料,以及使得绝缘结构中的气泡今量降至最小,从而提高绝缘结构的整体性能.最后,论文对超导磁体线圈真空压力浸渍过程中的介电谱控制浸渍过程的可行性进行了初步的分析和实验探讨.
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