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本文提出了一种快速制备微纳尺度金阵列结构的新方法—无墨水接触印刷技术。通过设计一种新型的巯基-烯弹性印章，将印刷官能团与弹性印章相结合，从而基于巯基-金反应与接触印刷原理在基底上产生金膜图案。这种无墨水接触印刷技术工艺简单、方便快捷，无需大型仪器，对实验条件要求较低，可用于制备大面积金图案阵列结构。本论文的主要研究内容包括：（1）系统分析了目前在制备微纳金属阵列结构中存在的问题，并探讨了微接触印刷技术中存在的几个关键限制因素，如弹性印章的溶胀以及疏水性、墨水扩散等，为无墨水接触印刷实验方案的提出提供理论依据；（2）依据需求设计一种新型、表面富含活性巯基官能团的弹性印章用于无墨水接触印刷技术研究，并开展基于巯基-烯反应的光固化合成实验，确定新型弹性印章的材料配比；开展光刻技术研究，制备出无墨水接触印刷技术中所需的模板；开展原始模板防粘工艺探索，并利用浇铸工艺制备出新型弹性印章；（3）开展无墨水接触印刷技术实验研究，实验制备出了多种线宽的金图案结构，并对印刷时间、结构占空比等相关因素进行初步研究，为基于无墨水接触印刷技术快速制备微纳金属阵列结构的研究提供帮助。