论文部分内容阅读
NiZn铁氧体薄膜具有电阻率高、居里温度高、温度系数低、高频性能良好等优点,广泛应用于平面电感器、微型变压器、电磁干扰抑制器等方面。本论文主要研究了ZnFe_2O_4缓冲层、基片种类及Mn取代对NiZn铁氧体薄膜微观结构与磁性能的影响。采用射频磁控溅射法制备NiZn铁氧体薄膜和ZnFe_2O_4铁氧体缓冲层。采用Philips X’Pert Pro MPD型X射线衍射仪(X-ray Diffractometer,XRD)分析薄膜和靶材样品的物相结构;采用RiKen Denshi Co.I