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随着微电子集成技术的长足发展,以及光电子和传感器等相关技术向微小型化应用领域的不断拓宽,铁电薄膜材料的发展呈现出十分诱人的前景。钙钛矿型铁电氧化物优良的综合性能,使得其长久以来成为人们的研究热点,而薄膜材料的研究更是如此。由于薄膜性能好坏直接影响器件的性能,随着科学技术的发展,各种特殊用途对薄膜技术与薄膜材料的性质提出了各种各样的要求,例如尺寸的要求,膜的结构上的要求,表面形貌上的要求等。为了满足实际应用中提出的要求,就必须通过反复实验和仔细研究工艺参数,以实现薄膜材料的广泛应用。基于这方