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氧化锌(ZnO)是II-VI族直接带隙(3.3eV)半导体氧化物,由于其优良的光电特性等,在发光器件、液晶显示器、太阳能电池、气敏元件以及透明电极等领域得到了广泛的应用。与现在常用的透明导电薄膜ITO和SnO2:F薄膜相比,ZnO薄膜具有价格便宜,在活性氢和氢等离子体环境下稳定性高等优点而备受青睐。In掺杂ZnO薄膜(ZnO:In)可以有效改善薄膜的光电性能,因此开展ZnO:In透明薄膜的研究具有非常重要的意义。本文通过射频磁控溅射技术在玻璃和石英衬底上制备ZnO:In薄膜,系统研究了I