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论文以1H，1H，2H，2H-全氟辛基三乙氧基硅烷(FAS-F17)和1H，1H，2H，2H-全氟癸基三乙氧基硅烷(FAS-F19)为低表面能改性材料，在前期缓蚀技术的基础上，利用分子自组装技术对无锈青铜基体进行表面修饰，扫描电镜SEM结果表明基体表面覆有一层多孔隙的网状结构涂层，且测得制备出的超疏水表面接触角θ分别可达到152.5°和156.2°，表现出良好的超疏水性能;且水滴在表面上的粘附性很小可在其上随意滚动，表现出其具有较好的自清洁特性。在此基础上，论文尝试利用相同的制备工艺在带锈青铜表面构建超疏水表面，制得的氟硅烷表面的接触角θ也可达到137.4°和140.2°。结合SEM图像分析可以发现在带锈青铜试片表面形成了一层保护涂层。 论文设计采用电化学阻抗谱法EIS和Tafel极化曲线对经过缓蚀/氟化处理后的电极分别在三种模拟腐蚀介质（0.3％ NaCl溶液、0.3％ NaCl+0.5％ NaNO3溶液、0.3％ NaCl+0.5％ NaHSO3溶液）中的耐腐蚀性能进行了后评价，结果表明，氟硅烷涂层大大增加了青铜基体本身的耐腐蚀性能;浸泡初期氟硅烷涂层表现出很强的耐腐蚀性能，具有很大的容抗弧半径，随着浸泡时间的增长，腐蚀介质透过有机涂层与金属基体接触发生腐蚀行为，到腐蚀后期，腐蚀产物逐渐积累在涂层表面形成致密的腐蚀产物膜，阻挡了溶液中的腐蚀介质通过有机涂层对青铜基体进行腐蚀破坏，从而使腐蚀进程趋于稳定。