基于AlN/c-BN的高频SAW器件的制备及研究

来源 :天津理工大学 | 被引量 : 2次 | 上传用户:idea0315
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
随着移动通讯技术的飞速发展,声表面波(SAW)器件以其高频、高功率、高可靠性及微型化等优点广泛的应用到无线通讯、雷达以及日常消费领域。如何提高声表器件的中心频率是目前通讯技术进一步发展的关键。金刚石由于具有最高的SAW速度,以金刚石为基底的多层膜结构成为制备高频SAW器件的突破口,同时压电材料AlN、c-BN薄膜具有较高的SAW传播速度,又归属于III-V族氮化物体系,与金刚石具有相近的晶格结构,因此本论文提出构建c-BN/AlN/diamond结构高频SAW滤波器,并主要研究了如何通过退火制备高质量(002)取向的AlN薄膜、AlN/c-BN复合薄膜结构的工艺实现方法以及相应的SAW器件的制备与测试。本课题首先利用退火工艺优化了(002)取向的AlN薄膜,设计离位与原位两种退火方式,对比了不同退火温度对AlN薄膜的影响,通过XRD、AFM、PFM等方法研究了不同条件下AlN薄膜的晶向、形貌和压电特性的变化,发现原位退火明显优于离位退火,当退火温度为500°C时,薄膜具有最佳的(002)取向,同时具有最高的相对压电系数d33=0.52V,并具体研究了该条件下AlN薄膜的极化保持特性,发现薄膜内部矫顽场电场约与8V电压产生的电场强度相同。其次,制备了基于AlN薄膜的c-BN/AlN薄膜结构,通过不同厚度、不同层数的对比,得出当c-BN厚度为80nm,AlN厚度为80nm,3层结构薄膜时可获得最佳的相对压电系数d33=0.75V,相对于单层AlN薄膜提高了44.2%,同时保持良好的极化特性。最后,设计并优化了叉指宽度为2μm的器件结构,有效降低了器件插入损耗,通过紫外光刻工艺获得了器件结构完整、线条完好、无断指连指等现象的叉指换能器,在此基础上,分别测试了IDT/AlN/SiO2/Si结构器件中心频率为495MHz,插入损耗为-24.15dB;IDT/AlN/c-BN/AlN/SiO2/Si结构器件中心频率为592MHz,插入损耗为-35.8dB;IDT/AlN/c-BN/AlN/diamond结构器件中心频率为1.13GHz,插入损耗为-46.5dB。上述实验结果与设计初衷基本吻合,c-BN/AlN多层结构相对于单层AlN薄膜提高了相对压电系数,同时器件中心频率提高了19.6%,并在金刚石衬底上获得了GHz的高频滤波器,表明多层膜结构在高频SAW器件的应用上具有广阔的前景。
其他文献
<正> 一、概况上海位于东海之滨,地处长江口南岸(见附图),面积为6192km~2。全境除西部少数海拔100m左右的残丘外,均为长江三角洲平原的一部分,地势东高西低,地面高程一般在海
21世纪是海洋的世纪,世界沿海各国都加大了对海洋的开发力度,人类针对海洋的实践活动越来越频繁,促进了海洋经济的快速发展。但是以大量资源、能源消耗换取粗放式的经济增长
<正>2019年5月25—26日,第一届全国海洋经济发展示范区建设论坛在山东日照举行。本次论坛以习近平生态文明思想、习近平新时代中国特色社会主义经济思想和习近平总书记关于海
电子产业发展迅速,高端电子产品的研发制造也是我国经济转型的方向之一。点胶技术是电子产品制造的重要技术,电子产品的更新换代也对点胶技术提出了新的要求。点胶技术正在向
微机电系统(Micro-Electro-Mechanical System,MEMS)红外光源基于热辐射原理,具有体积小、功耗低、调制频率高、波长范围宽、寿命长等特点。随着纳米技术及纳米结构与传感器
随着半导体技术的不断发展,作为大型集成电路基本单元的金属氧化物半导体场效应晶体管的尺寸在逐渐地按比例缩小,换句话说就是MOSFET中的半导体结的距离越来越短,现在已经达
数字脉宽调制器(Digital Pulse Width Modulator,DPWM)具有抗干扰能力强,效率高及可重复编程等优点,因此被广泛应用于开关电源、通信、功率控制及变换等各个领域。本文基于现
环境和资源的破坏及生态平衡的失调,使人们从此起彼伏的灾祸和日趋严重的公害中逐渐清醒过来,开始认识到工业革命以来那种不顾地球生态环境的“高消费、高投入、高污染”的模
村落社会由无数个家户单元组成。家户独立自主,但不可能完全自给自足,家户存在天然缺陷。在国家治理能力较弱的传统时期,家户的不足性要依赖村落社会来弥补,由此形成了家户对
有机电致发光器件(OLED)拥有着高性能,低成本,柔性特性和高亮度等等优势在固态照明和显示领域得到了人们的极大关注。使用多种特殊功能材料和各种结构的OLED器件相继被提出,