【摘 要】
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对于硬质薄膜结合力的评价,划痕法应用最为广泛,该方法是一次性加载,能简单快捷的表征硬质薄膜的结合性能。然而,划痕法测定膜/基结合力时,薄膜和基体的性质、薄膜的厚度、压头的几何尺寸、加载速率等许多非界面因素均对结合力的测定有较大的影响,这也是该方法应用范围受限的主要原因。为此,论文通过综述半球型模型及有限元分析结果对压头作用下膜/基体系的应力应变进行分析,结合硬质薄膜失效形式,分析总结划痕法膜/基体
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对于硬质薄膜结合力的评价,划痕法应用最为广泛,该方法是一次性加载,能简单快捷的表征硬质薄膜的结合性能。然而,划痕法测定膜/基结合力时,薄膜和基体的性质、薄膜的厚度、压头的几何尺寸、加载速率等许多非界面因素均对结合力的测定有较大的影响,这也是该方法应用范围受限的主要原因。为此,论文通过综述半球型模型及有限元分析结果对压头作用下膜/基体系的应力应变进行分析,结合硬质薄膜失效形式,分析总结划痕法膜/基体系常见失效形式及其失效机理。分析结果显示,不同薄膜或基体材料、薄膜厚度等因素造成的膜/基体系应力应变分布
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WO_3是N型金属氧化物半导体材料，它对氧化性气体NO_x、O_3、SO_2和还原性气体H_2S、H_2、NH3等都有敏感性。但作为气敏材料，WO_3对气体的灵敏度、选择性和响应/恢复时间等方面的气敏性能还有待提高。本文通过在WO_3中适当的添加Sn元素，制备Sn掺杂WO_3薄膜，测试其对NO_2气体的气敏性能，寻找最佳的薄膜制备条件。本文采用磁控反应双靶共溅射的方法，金属钨靶使用直流溅射，金属锡
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纳米三氧化钨（WO_3）薄膜是一种重要的功能材料，因其具有良好的气致变色、电致变色、光致变色等性能而得到深入的研究和应用，近些年来对利用其气致变色特性开发气体传感器方面的研究引起了广大材料研究者的关注。本文采用直流磁控溅射及双靶共溅射镀膜技术，分别在玻璃衬底上制备了三氧化钨（WO_3）薄膜及钛掺杂三氧化钨（WO_3:Ti）薄膜，并将薄膜分别在350℃、450℃及550℃温度下进行了热处理，采用台阶
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