高速高灵敏度InP/InGaAs雪崩光电二极管

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雪崩光电二极管(APD)由于其具有内部增益,可以提供比PIN探测器(PD)高5~10dB的灵敏度,被广泛应用于光通信系统中。近年来,面向100Gbit/s、甚至400Gbit/s高速通信系统应用的高响应速率、高灵敏度的APD已经成为相关领域关注的焦点。传统观点认为InAlAs材料碰撞离化特性优于InP,在25Gbit/s高速率系统中受到了研究者的青睐。10Gbit/s及以下InP/InGaAs APDs已被广泛应用于光通信系统中,而对25Gbit/s及更高速率的InP/InGaAs APDs的研究还很少。本文主要研究了适合25Gbit/s的InP/InGaAs APDs,其带宽特性略优于InAlAs/InGaAs APDs,但前者制作工艺更成熟。  本文首先建立了包含弛豫空间效应在内的APD频率响应模型。系统研究了垂直结构的InP/InGaAs APD和InAlAs/InGaAs APD以及Si/Ge APD的增益带宽特性。通过改变吸收层厚度、光敏面面积、倍增层厚度研究载流子渡越时间、RC时间常数以及雪崩建立时间对带宽的影响。研究了InAlAs/InGaAs波导结构APD的带宽特性,且理论计算了本课题组研制的InP/InGaAs APD击穿电压的温度特性,理论结果和实验结果相吻合。说明该模型对APD器件性能的研究是适用的。  为了设计高速率高灵敏度的InP/InGaAs APD,倍增层厚度的选择非常重要。本文采用随机路径长度(RPL)模型来优化器件的厚度和接收机的灵敏度。分别优化了直径为30μm或50μm的InP、InAlAs和Si APD在10 Gbit/s系统传输速率下的灵敏度,分析了系统传输速率、倍增层厚度、温度、材料等对接收机灵敏度的影响。接着,优化了25Gbit/s的InP/InGaAs APD的增益层厚度,其值为0.15μm,有源区面积为5μm×20μm。采用频率响应模型对该波导APD进行模拟,得到增益为11.13时,带宽为19.45GHz,可以用于25Gbit/s的系统。并与相同倍增层厚度的InAlAs波导APD进行比较,得到InAlAs的增益带宽积比InP低很多,其源于不离化层中载流子的漂移速率对直流增益的影响。最后,通过建立包含吸收层的离化在内的频率响应模型对InP APD和InAlAs APD进行了模拟。吸收层的离化较小的提高了InAlAs APD的增益带宽积,而显著降低了InP APD的增益带宽积。在InP APD的制作中,电荷层的参数需要更严格的控制。
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