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NiCr合金在口腔环境中会释放出Ni离子,引起使用安全性问题;为了提高NiCr合金的耐腐蚀性能,降低Ni离子的析出量,本论文采用微弧氧化技术在NiCr合金表面制备了低Ni含量的Al2O3膜层。利用SEM、EDS、XRD方法对膜层的表面形貌、截面形貌、元素含量以及相组成进行了研究,通过拉伸试验、电化学测试技术、Ni离子析出试验分别研究了膜层的结合强度、耐腐蚀性能和膜层对Ni离子析出量的影响。研究表明,在NaAlO2电解液中NaAlO2浓度对微弧氧化膜层表面形貌影响较大;膜层表面Ni元素含量为24at%;膜层主要以非晶态形式存在,含有少量的γ-Al2O3相组成,其衍射峰强度随NaAlO2浓度的增加而增强。在NaAlO2-Na5P3O10电解液体系中Na5P3O10浓度对微弧氧化膜层表面形貌有较大影响;随着反应时间的延长,膜层的表面微孔数量减少,孔径增大;膜层的厚度随着Na5P3O10浓度的增加、正向电压的升高和反应时间的延长而增加;膜层表面Ni元素含量在48at%;膜层主要由γ-Al2O3相组成,其衍射峰强度随Na5P3O10浓度的增加、正向电压的升高和反应时间的延长而增强。在NaAlO2电解液中制备的膜层与基体的结合强度随着NaAlO2浓度的增加而增大,最大为14.6MPa;在12.3g/L NaAlO2-1g/L Na5P3O10电解液体系中,正向电压为380V,反应时间为30min,所得膜层与基体的结合强度为21.5MPa,过低或过高的Na5P3O10浓度、正向电压,加载负向电压和过长的反应时间均使膜层与基体的结合强度降低。微弧氧化膜层提高了NiCr合金的腐蚀电位,对腐蚀电流密度影响不大,能够抑制Ni离子的释放。在12.3g/L NaAlO2-1g/L Na5P3O10电解液体系中,正向电压为380V,反应时间为30min,所得到的膜层与基体相比,其腐蚀电位提高了275mV,Ni离子析出量降低55%。过低或过高的Na5P3O10浓度、正向电压均使Ni离子的析出量增加;过长的反应时间使Ni离子的析出量增加。