【摘 要】
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该文以介质涂敷结构的散射问题和阻抗边界条件为研究对象,做了以下几方面工作:首先,针对单层、多层介质涂敷平面导体目标的电磁场散射问题,通过引入高阶导数的方法和泰勒展开
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该文以介质涂敷结构的散射问题和阻抗边界条件为研究对象,做了以下几方面工作:首先,针对单层、多层介质涂敷平面导体目标的电磁场散射问题,通过引入高阶导数的方法和泰勒展开法推导了标准阻抗边界条件、广义阻抗边界条件和精确边界条件的有关公式,并对其各自的适用范围、主要区别和内在联系进行了研究;其次,针对多层介质覆盖导体平面结构和柱面结构的电磁散射问题,研究了阻抗边界条件的适用范围和数值实现方法,具体探讨了矩量法与阻抗边界条件结合的数值实现过程,将迭代物理光学法引入介质覆盖目标的电磁散射分析,建立了多层介质覆盖平面、柱面目标结构的迭代物理光学分析模型,并提出了改进方法;最后,通过单层和多层介质覆盖平面结构的反射系数计算与三层介质覆盖导体圆柱、卵形柱、椭圆柱、球体的电磁散射计算,对各种阻抗边界条件的适用范围和异同点、矩量法与迭代物理光学法的计算效果进行了比较,进一步验证了有关阻抗边界条件理论和数值实现方法的正确性.
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