【摘 要】
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该文建立了一个低能电子束曝光的Monte Carlo模拟计算模型及其软件系统,对具有高斯分布束斑的低能电子在靶体PMMA-衬底中的复杂散射进行模拟,并通过大量计算研究不同曝光条
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该文建立了一个低能电子束曝光的Monte Carlo模拟计算模型及其软件系统,对具有高斯分布束斑的低能电子在靶体PMMA-衬底中的复杂散射进行模拟,并通过大量计算研究不同曝光条件对沉积能密度分布的影响,获得沉积能的分布规律:入射束能对沉积能分布的影响较大,使用低能电子束曝光,可以降低邻近效应、提高曝光效率、减轻对衬底的损伤程度;胶厚和衬底材料对胶中沉积能分布也有影响,胶厚主要影响前散射电子沉积能分布,衬底材料主要影响背散射电子沉积能分布;适量的低束能、薄胶层、低原子序数衬底可以使前散射电子对胶中沉积能的贡献增大,背散射电子的贡献减小,提高曝光分辨率.该文还对低能电子束曝光模拟计算中边蜀处理的必要性进行了计算分析;提出一种简便的优化束能确定方法,改善了Peterson等的工作.该研究将为低能电子束曝光技术的定量研究提供一定的理论依据.
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