【摘 要】
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磁记录技术在当今社会的信息存储技术中占有极其重要的地位.饱和磁化强度约为20KG的FeAlN软磁薄膜已经成为了这方面很有应用前景的材料,从而得到了广泛的研究.我们使用射磁控
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磁记录技术在当今社会的信息存储技术中占有极其重要的地位.饱和磁化强度约为20KG的FeAlN软磁薄膜已经成为了这方面很有应用前景的材料,从而得到了广泛的研究.我们使用射磁控溅法成功地制备了FeAlN纳米晶软磁薄膜,系统地研究了溅射气压、基板温度、膜厚及靶成份对薄膜结构和磁性能的影响,得到了如下结论:1、溅射气压是影响薄膜磁性能的重要因素.研究发现溅射气压以2mTorr为宜.2、FeAlN纳米晶软磁薄膜的磁性能强烈地依赖于沉积进基板的温度.实验发现,基板温度大约为120℃左右时,薄膜样品具有优异的软磁性能.3、随着膜厚的增加,薄膜样品的饱和磁化强度Ms增加,在1μm左右时趋于饱和,而矫顽力Hc则逐渐减小.4、不同靶成份(FeAl的面积比不同)下制备的薄膜样品中的铁铝原子比与复合靶上铁铝的面积比并不象预测的那样相近,而是有较大的差别.当铝元素所占的原子经为3.5at.﹪时,薄膜样品具有较好的软磁性能.5、薄膜中α-Fe晶粒的平均直径大约为15nm.薄膜中除了α-Fe相外,还有别的相生成,这些相中有铁氮化合物相也有铁铝化合物相.
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