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该论文主要利用TMX2000型原子力显微镜(AFM)研究新型有序超薄膜-分子沉积(MD)膜的纳米摩擦特性,从系统结构和工部条件两方面考察纳米尺度上摩擦的规律和机理,同时,也增加了对MD超薄膜性质的认识.力的标定是纳米摩擦学的难点之一,该论文对TMX2000型原子力显微镜(AFM)进行载荷、粘附力、横向力的标定,得到法向力和摩擦力的信息,利用标定结果对单晶硅的测定表明,摩擦系数和文献基本一致?该论文中,AFM的针尖和微悬梁均为Si<,3>N<,4>,所加载荷较小(10nN量级),扫描较慢(10μm/s的量级),相对湿度为40%,温度为25℃,环境为大气.粘附在纳米摩擦研究中表现出重要的作用,粘附可以改变接触的面积和表面的状态,加上表面变形的延滞,因此,加载和卸载实验表现出不太一致;而针尖的磨损,湿度的减小,污染层的减少将加大粘附力,摩擦力增大.测量表明,MD膜表面为各向同性,具有较稳定的分形几何特征,不随载荷和扫描速率而改变.在该论文在硅的APS化表面上还观察到了剪切诱导有序的转变.