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为高能物理实验建造的新一代大型强子对撞机需要性能优异的粒子探测器与之配合使用,新型粒子径迹探测器是当前研究的热点和重点器件。近年来,法国IPHC研究所相继研制了一系列采用标准CMOS工艺制造的单片式有源像素传感器用于带电粒子径迹探测,命名为MIMOSA (Minimum Ionizing particle MOS Active pixel sensor)探测器。该类型探测器不仅继承了混合式像素传感器空间分辨率高、读出速度快的特点,更具有制造成本低、器件厚度小的优势。2007年,IPHC开始与本项目组继续开展CMOS单片式有源像素带电粒子径迹传感器的研究工作。带电粒子探测器是通过收集带电粒子与入射路径周围的硅原子发生电离反应产生的非平衡载流子来检测带电粒子的。衡量其性能的关键参数包括分辨率、信噪比、读出速度以及抗辐射能力等。为了进一步提高MIMOSA探测器的信噪比和抗辐射能力,需要对探测器敏感空间——外延层的关键工艺参数进行优化,以提高电荷收集效率和收集时间。本文深入探讨了外延层掺杂类型、掺杂浓度、外延厚度、掺杂梯度等参数对电荷收集机制和性能的影响并给出了改进方案。本文的工作主要包括：(1)以NIIMOSA-26探测器为原型建立了内嵌物理模型的单像素和3×3矩阵模型；(2)设计了模拟X光辐射的多粒子仿真方法,用于评估探测器电荷收集性能；(3)分别采用了准稳态模式和瞬态模式对不同工艺参数的传感器模型进行了一系列仿真,获得了电子寿命、电势、电场、耗尽区等静态参数以及电荷收集数量收集效率、收集时间、相邻扩散等动态参数。然后,根据仿真结果对工艺参数影响探测性能的原因进行了理论分析和计算,探讨了多个参数相互作用机制并提出了一套改进方案。最后,将优化过的MIMOSA-26AHR探测器的π介子流、55Fe、106Ru辐射实验结果与标准探测器进行了比较分析,验证了理论计算和改进方案的可靠性。此外,还对非均匀掺杂外延探测器的工作原理、应用优势和制造工艺进行了探讨。本文的研究表明：采用高电阻率外延层的探测器比低电阻率外延探测器拥有更大的耗尽区、更具优势的电势和电场分布,因此也拥有更加优异的电荷收集能力；N型高阻外延层比P型高阻外延层更加容易完全耗尽并形成范围更大的收集电场。进一步的分析表明：14μm左右是外延层的理想厚度；P型外延层的电阻率越高,电荷收集性能越好；N型外延层能否全耗尽对探测器电荷收集具有重要影响；对于14μm厚的N型外延层,其最佳电阻率约在400～500Ω·cm范围。这些结论为带电粒子探测器关键参数的设计提供了一些新的理论和设计依据。