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本文通过磁控溅射方法制备了低浓度Ti掺杂DLC薄膜，研究沉积参数对低浓度Ti-DLC薄膜结构和力学性能的影响，并重点分析沉积参数和测试条件对室温大气环境下薄膜的摩擦学行为。相关结果对制备具有高硬度低应力同时具有优异抗磨损性能的薄膜提供理论和技术基础。1.通过磁控溅射Ti孪生靶，在不同Ar/CH4流量比下制备不同Ti掺杂DLC薄膜。在低浓度Ti掺杂时薄膜具有高硬度、低应力、低摩擦系数和磨损率，证明了薄膜在低浓度掺杂时具有优异的机械性能和摩擦学性能。2.制备了未掺杂和低浓度Ti掺杂的DL