半导体光电材料多晶硫化镉薄膜的制备及其特性测试与分析

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该文以电子显微谱、X射线衍射谱、紫外可见光光谱及荧光光谱为主要研究手段,针对硫化镉膜的制作方法,光电性质进行了系统的研究和探索,提出了四种湿法沉积硫化镉膜方法.阐述了四种硫化镉膜的工艺过程、特点及其各自的形成机理,并对其性能的测试原理及超声波独特的作用机理进行了详细的论证.文中采用了图表等形式,对测试的数据结果进行了归纳和综合分析,从而得出一些有价值的结论.同时,对有关硫化镉膜的发展状况、应用前景及测试仪器等方面做了介绍.
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