多晶硅太阳电池新型表面光学系统的研制

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用低成本的碱性腐蚀液制作太阳能级多晶硅片表面陷光结构,再匹配合适的双层氮化硅减反射膜,构成新型多晶硅表面光学系统。由NaOH:NaNO2=1:1(质量比,75-80℃)腐蚀25秒,用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)给出硅片的表面形貌是类似片状的沟槽织构。用紫外可见分光光度计测试显示,硅片表面反射率降至21.9%(λλ=650nm),再沉积78-85nm厚,折射率为1.98~2.03的双层氮化硅减反射膜,使多晶硅表面光学系统的反射率降到3%以下(λλ=650nm),减反射效果明显。研制出的多
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