【摘 要】
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本文使用磁控溅射制备薄膜的方法在室温的条件下,制备了TiO_2/Ag/TiO_2、TiO_2/Ag/ZnO、ZnO/Ag/ZnO三种氧化物夹层银的透明电极。主要讨论了溅射功率、薄膜厚度以及在溅射Ag过程中通入氧气浓度等参数对透明多层电极性能的影响。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、UV-可见光分光光度计、四探针和电子万能试验机等对透明电极的形貌、结构、光学、电学性能以及耐弯曲性能等进行了表征分析。
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本文使用磁控溅射制备薄膜的方法在室温的条件下,制备了TiO_2/Ag/TiO_2、TiO_2/Ag/ZnO、ZnO/Ag/ZnO三种氧化物夹层银的透明电极。主要讨论了溅射功率、薄膜厚度以及在溅射Ag过程中通入氧气浓度等参数对透明多层电极性能的影响。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、UV-可见光分光光度计、四探针和电子万能试验机等对透明电极的形貌、结构、光学、电学性能以及耐弯曲性能等进行了表征分析。首先,分析讨论了TiO_2和Ag膜厚度对多层膜性能的影响,优化薄膜的制备参数,使TiO_2/Ag/TiO
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