【摘 要】
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该文系统地研究了真空阴极弧法沉积CN薄膜的微观结构及其与工艺参数的关系,不同温度退火后CN薄膜的结构,并且还比较了弯曲磁过滤器对薄膜微观结构的影响.利用X射线光电子能谱
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该文系统地研究了真空阴极弧法沉积CN<,X>薄膜的微观结构及其与工艺参数的关系,不同温度退火后CN<,X>薄膜的结构,并且还比较了弯曲磁过滤器对薄膜微观结构的影响.利用X射线光电子能谱(XPS)研究了薄膜中的氮含量、碳和氮元素的化学态,采用喇曼(Raman)光谱分析了薄膜中CC原子网络结构的属性;使用傅立叶转换红外光谱(FTIR)研究了薄膜中各种键的属性;使用透射电子显微镜(TEM)对薄膜的相结构及其组织形态进行了研究;使用纳米压痕技术测量了薄膜的纳米硬度值;使用原子力显微镜(AFM)分析了薄膜的表面形貌和厚度.研究结果表明,薄膜具有非晶的结构特征.在低的弧流范围内,薄膜主要由类聚合物组分和类石墨组分组成,而且随着弧流的增加,薄膜中的聚合物组分逐渐减少,随着Ar/N<,2>气体流量比的减少,薄膜中的类聚合物组分呈减少趋势;在高的弧流范围内,发现有新的微观结构组分存在,但只有在严格的弧流和Ar/N<,2>气体比的条件下才在薄膜中占主要,过高和过低的弧流都会导致该组分的减少.
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