【摘 要】
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该文介绍了磁控溅射沉积技术的基本原理、发展及应用。简述了MgO、Al2O3薄膜的应用及其制备方法。 介绍了实验中使用的非平衡中频孪生磁控溅射沉积系统的组成、性能。
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该文介绍了磁控溅射沉积技术的基本原理、发展及应用。简述了MgO、Al2O3薄膜的应用及其制备方法。 介绍了实验中使用的非平衡中频孪生磁控溅射沉积系统的组成、性能。 以镁靶为例,分析了出现金属态沉积的原因。分析认为,在大电流、散热不良的情况下,靶面温度升高会极大增高靶材的被溅蚀速率,从而呈现金属态沉积。该过程可能伴随有靶材的蒸发。 分析了该系统制备的MgO薄膜的结构、厚度。结果表明:利用反应非平衡中频磁控溅射制备的MgO薄膜主要为（200）晶体取向。在一定范围内,薄膜的沉积速率随氧气含量、沉积功率、负偏压的提高而增加,气压对MgO沉积速率几乎没有影响。 分析了掺铒Al2O3薄膜结构,测量其光致发光性能。制备的掺铒Al2O3薄膜未退火时为非晶结构,存在多层膜结构现象;退火后含有Er4Al2O9、Al10Er6O24晶体相结构。制备过程中,偏压、氧气含量、制备气压的增加都将导致退火后薄膜的光致发光峰值光强下降,沉积时加热会导致退火后光致发光的峰值光强急剧下降。而薄膜厚度的增加有利于退火后光致发光的峰值光强增加,但是对于一定的泵浦功率存在饱和厚度。
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